臭氧應用在半導體行業中，CVD膜成型技術使用形成硅氧化膜，**膜的平面性。利用臭氧溶于水的氧化性和·OH的雙重作用，降低化學品消耗、處理成本以及提高清潔效率，在芯片制造過程中，臭氧主要用于半導體晶片、LCD(液晶顯示)用玻璃基板、精密光學零件基板，消除有機物、金屬和顆粒，去除光刻膠(臭氧拋光)，并對去離子水設施進行消毒，疏水性轉變為親水性。

　　臭氧應用在光伏行業中硅晶片的表面結構化(俗稱制絨)的預清洗和后清洗，取消對應槽體雙氧水和堿的使用，降低成本和環保;單晶硅PERC使用臭氧水+鹽酸的方式;臭氧氧化生成SiO2鈍化薄膜，增強硅晶片的抗PID效應能力。